光刻机是什么
光刻机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机 , 曝光系统 , 光刻系统等 。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序 。
光刻机一般根据操作的简便性分为三种 , 手动、半自动、全自动:
1、手动:指的是对准的调节方式 , 是通过手调旋钮改变它的X轴 , Y轴和thita角度来完成对准 , 对准精度可想而知不高了;
2、半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐;
【光刻机是什么】3、自动:指的是从基板的上载下载 , 曝光时长和循环都是通过程序控制 , 自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要 。
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